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均溫氧化擴散爐

發布時間:2020-08-26  瀏覽次數:1433

 

設備簡介:

均溫氧化擴散爐應用于半導體器件、分立器件、光電子器件、電力電子器件、太陽能電池及大規模集成電路制造等領域對晶片進行擴散、氧化、退火、合金及燒結等工藝,可用于2-8英寸工藝尺寸

 

  

配置詳情


 

設備特點:

1.溫場均勻,恒溫區長度及精度:300~1250mm  800~1200℃±1℃

2.具有強大的軟件功能,NBD-101EP嵌入式操作系統,用戶可以方便地修改工藝控制參數,并可隨時顯示各種工藝狀態;配有故障自診斷軟件; 
3.程序可以實現手/自動工作,在停電或中途停機后,再次啟動可以根據工藝手動升溫,節省工藝時間; 
4.具有多種工藝管路,可供用戶方便選擇; 
5.冷端檢測環境溫度進行溫度補償,避免環境溫度變化,對爐膛溫度產生影響,避免層間干擾; 

6.可存儲多組PID參數供系統運行調用功能,具有多點溫度補償
7.氣體流量采用數字化精確控制,采用模擬信號閉環控制,強弱電分開,各種數據交互采用標準總線,提高抗干擾能力,保證數據安全;氣體打開具有緩啟動功能; 
8.具有多種報警功能及安全保護功能;
9.恒溫區自動調整,串級控制,可準確控制反應管的實際工藝溫度; 
10.壓力自動調整技術,將壓力參數引入晶體硅氧化工藝,有效減小了尾部排風對工藝的干擾,減小由排風引起的工藝波動

可配工藝管外徑

爐管外徑152mm   適用于3";爐管外徑252mm   適用于6";

爐管外徑300mm   適用于8"

溫度控制范圍

300~1150 ℃

恒溫區長度及精度

300~1250mm(依客戶要求定)  300~800 ℃±1.5, 800~1100 ℃±1℃

可控升降溫速率

升溫速率:≦15/min  降溫速率≦5/min

加熱區個數

3區,4區,5區,6區(依客戶要求定

送料方式

手動送料

冷卻系統

水冷2-4Kgf/cm2,8L/min;+上接排風冷≈25m3/min;

軸向溫場分布

 

徑向溫場分布

 

控制系統

 

1.可預存15條工藝曲線,避免不同的實驗工藝重復設置帶來的麻煩;

2.實驗過程更加直觀,操作更加便捷;

3.NBD-101EP嵌入式操作系統中英文互換圖形界面,10寸真彩觸屏輸入,智能式人機對話模式,非線性式樣溫度修正;

4.具有超溫報警、斷偶提示、漏電保護等功能。

加熱腔體

 


采用優質加熱絲:KANTHAL及HRE

絕熱材料:晶體纖維等

絕緣子:高純剛玉,間距依據溫場調節

端口過渡環:氧化鋁纖維真空成型。

溫區:3段、4段、5段、6

 

真空密封系統

 

 

 

真空度:≤10Pa(機械泵)

供氣系統

 

采用質子流量計控制氣體流速,與設備集成為一體;

可選配項目

1. 出料口排毒氣柜;

2. 凈化出料臺;

3. 自動石英漿推拉舟機構

設備使用注意事項

1. 裝取樣片必須帶石棉手套,使用石英器件小心打碎;

2. 選擇合適的石英舟,取出清潔好的石英托板和石英拉鉤;

3. 安裝樣片插入到石英舟的槽內,用石英拉鉤將石英舟推入爐管到恒溫區;

4. 爐管內壓力不得超過0.15MPa(絕對壓力),以防止壓力過大引起危險;

5.高真空下使用時),設備使用溫度不得超過1000℃;

服務支持

一年有限保修,提供終身支持(保修范圍內不包括易耗部件,例如爐管和密封圈等)

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